科華KEMPUR

北京科華微電子材料有限公司是一家中美合資企業(yè)，成立于2004年，是一家產(chǎn)品覆蓋KrF（248nm）、I-line、G-line、紫外寬譜的光刻膠及配套試劑的供應(yīng)商與服務(wù)商，也是集先進光刻膠產(chǎn)品研、產(chǎn)、銷為一體的擁有自主知識產(chǎn)權(quán)的高新技術(shù)企業(yè)。

科華微電子擁有中高檔光刻膠生產(chǎn)基地，分別有百噸級環(huán)化橡膠系紫外負性光刻膠和千噸級負性光刻膠配套試劑生產(chǎn)線、G/I線正膠生產(chǎn)線（500噸/年）和正膠配套試劑生產(chǎn)線（1000噸/年）、百噸級248nm光刻膠生產(chǎn)線。科華微電子光刻膠產(chǎn)品序列完整，產(chǎn)品應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋集成電路（IC）、發(fā)光二極管（LED）、分立器件、先進封裝、微機電系統(tǒng)（MEMS）等。產(chǎn)品類型覆蓋KrF（248nm）、G/I線（含寬譜），主要包括：KrF光刻膠DK1080、DK2000、DK3000系列；g-i line光刻膠KMP C5000、KMP C7000、KMP C8000、KMP EP3100系列和KMP EP3200A系列；Lift-off工藝使用的負膠KMP E3000系列；用于分立器件的BN、BP系列等。

科華微電子研發(fā)技術(shù)力量雄厚，擁有多名光刻膠專家，具備很強的光刻膠原材料合成、配方及相關(guān)基礎(chǔ)評價能力，能夠持續(xù)推出符合客戶需求的新產(chǎn)品。科華微電子自成立以來，承擔(dān)了多項國家、北京市級光刻膠重點研發(fā)及產(chǎn)業(yè)化項目。

科華微電子有完備的支持產(chǎn)品研發(fā)和出廠檢驗的分析和應(yīng)用測試平臺。公司擁有兩個mini FAB，有分辨率達到0.11um的ASML PAS5500/850掃描式曝光機、Nikon步進式曝光機、TEL ACT8涂膠顯影一體機和Hitachi S9220 CD SEM等主流設(shè)備。上述測試平臺確保了科華能夠開展KrF、G/I線光刻膠產(chǎn)品及關(guān)鍵原料的開發(fā)與評估。科華微電子管理體系完整，擁有質(zhì)量管理體系（ISO9001）、環(huán)境管理體系（ISO14001）、職業(yè)健康安全管理體系（ISO45001）和有害物質(zhì)過程管理體系（IECQ QC080000）四個體系。

科華微電子產(chǎn)品技術(shù)先進，擁有國內(nèi)或國際專利數(shù)項，產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定，是中芯國際、上海華力微電子、長江存儲、華潤上華、杭州士蘭、吉林華微電子、三安光電、華燦光電等客戶的穩(wěn)定合作伙伴。經(jīng)過十多年的發(fā)展，公司已具相當(dāng)規(guī)模和品牌影響力，我司將致力于成為一家世界一流的先進光刻膠產(chǎn)品供應(yīng)商與服務(wù)商。