一、半導體設備的基本原理和工作方式
半導體設備工作原理基于能帶理論，即在半導體中存在價帶和導帶，其中價帶是半導體材料中的原子，而導帶中的原子在半導體中被加熱或激發后被激發到價帶之外。當外部電荷作用于半導體中時，它可以改變電子在能帶中的分布，導致電導率的變化。
半導體設備具有重要的電子功能，如場效應管、整流器、功率放大器和發光二極管。基于不同應用需要，半導體設備可以通過材料、結構、工藝等方面做出不同的改進和針對性設計。
二、半導體設備核心部件是什么
據統計，半導體設備的關鍵子系統主要分為 8 大類。包含：氣液流量控 制系統、真空系統、制程診斷系統、光學系統、電源及氣體反應系統、熱管理系統、晶圓傳送系 統、其他集成系統及關鍵組件，每個子系統亦由數量龐大的零部件組合而成。
不同半導體設備的核心零部件有所不同。例如：光刻機的核心零部件包括工作臺、投影物鏡、光源 等，而等離子體真空設備（PVD、CVD、刻蝕）的核心零部件包括 MFC、射頻電源、真空泵、ESC 等。
