一、平面研磨機(jī)簡(jiǎn)介
平面研磨機(jī)是一種精密研磨拋光設(shè)備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤(pán)上進(jìn)行研磨處理，工件與研磨盤(pán)作相對(duì)運(yùn)轉(zhuǎn)磨擦，來(lái)達(dá)到研磨拋光目的，廣泛用于LED藍(lán)寶石襯底、光學(xué)玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導(dǎo)光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。
二、平面研磨機(jī)研磨的不平整是什么原因
平面研磨機(jī)研磨出來(lái)的工件應(yīng)該是平整的，如果研磨后工件出現(xiàn)凹凸面，可能原因有以下幾點(diǎn)：
1、研磨盤(pán)不平，研磨機(jī)對(duì)研磨平板的重要作用是研磨平板本身的表面幾何形準(zhǔn)確地傳遞給被研磨工件，如果研磨平面不是理想平面，那么被研工件的表面也很難得到高精度平面。
2、受到動(dòng)力矩、扭轉(zhuǎn)力矩及運(yùn)動(dòng)慣性力等復(fù)雜受力作用的影響，促成了研磨過(guò)程中移動(dòng)的不平穩(wěn)性，造成了工件邊緣受力重、被磨掉的多，呈現(xiàn)凹狀。
3、沒(méi)有按照工件被研表面的大小和高度比例來(lái)確定運(yùn)動(dòng)的速度和方向。
4、沒(méi)有放在工件的中間位置而導(dǎo)致工件強(qiáng)制受力或著力不均。
5、控制環(huán)內(nèi)的工件之間的間隙過(guò)小，工件表面的每個(gè)點(diǎn)在研磨盤(pán)上的摩擦軌跡就會(huì)疏密不等，影響密封環(huán)的平面度，有時(shí)甚至?xí)构ぜ斊穑斐裳心ケ砻嫫保瑢?dǎo)致研磨不平整。
三、平面研磨機(jī)研磨不平整怎么辦
平面研磨機(jī)出現(xiàn)研磨不平整的現(xiàn)象時(shí)，要及時(shí)處理，以免生產(chǎn)的工件不合格，一般處理方法如下：
1、首先檢查研磨盤(pán)平面度，研磨盤(pán)平面度是研磨的基準(zhǔn)，是得到精密工件平面的保證，平面研磨機(jī)的研磨盤(pán)需定期修整平面，修整的方法有兩種：一是采用基準(zhǔn)平面電鍍金剛石修整輪來(lái)修面，二是通過(guò)修整機(jī)構(gòu)修面。
2、如果是受到動(dòng)力矩、扭轉(zhuǎn)力矩及運(yùn)動(dòng)慣性力等復(fù)雜受力作用的影響造成的不平整，則可以采用凸形表面的研磨平板來(lái)補(bǔ)償，不僅可以解決因磨損不均造成的質(zhì)量問(wèn)題，也可以使研磨平板壽命得到延長(zhǎng)。
3、如果是工件間隙過(guò)小引起的，則調(diào)整控制環(huán)內(nèi)的工件之間的間隙即可。
