一、靶材是什么材料
靶材是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在適當工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話，靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時，會產生不同的殺傷破壞效應。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
二、靶材的用途
1、用于顯示器上
靶材目前被普遍應用于平面顯示器（FPD)上。近年來，平面顯示器在市場上的應用率逐年增高，同時也帶動了ITO靶材的技術與市場需求。ITO靶材有兩種，一種是采用銦錫合金靶材，另外一種是采用納米狀態的氧化銦和氧化錫粉混合后燒結。
2、用于微電子領域
靶材也被應用于半導體產業，相對來說半導體產業對于靶材濺射薄膜的品質要求是比較苛刻的。現在12英寸（300衄口）的硅晶片也被制作出來，但是互連線的寬度卻在減小。目前硅片制造商對于靶材的要求都是大尺寸、高純度、低偏析以及細晶粒等，對其品質要求比較高，這就要求靶材需要具有更好的微觀結構。
3、用于存儲技術上
存儲技術行業對于靶材的需求量很大，高密度、大容量硬盤的發展，離不開大量的巨磁阻薄膜材料，CoF~Cu多層復合膜是如今應用比較廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發展，用它制造出來的磁光盤有著使用壽命長、存儲容量大以及可反復無接觸擦寫的特點。
