一、濺射靶材是什么
濺射靶材是安裝在真空鍍膜機上鍍膜用的，可鍍導電膜、絕緣膜、裝飾膜，超硬膜、潤滑膜、磁性膜等功能薄膜。
磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相鍍膜方式，就是用電子槍系統把電子發射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動量轉換原理以較高的動能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。濺射靶材有金屬，合金，陶瓷化合物等。
二、濺射靶材工作原理
濺射靶材主要是由靶坯、背板等部分構成，靶坯屬于高速離子束流轟擊的目標材料，是核心部分，在濺射鍍膜的過程中，靶坯被離子撞擊后，表面原子被濺射飛散出來并沉積于基板上制成電子薄膜。因為高純度金屬強度較低，可是濺射靶材需要安裝在專用的機臺內完成濺射過程，機臺內部為高電壓、高真空環境，所以超高純金屬的濺射靶坯需要與背板通過不同的焊接工藝進行接合，背板主要起到了固定濺射靶材的作用，以及良好的導電、導熱性能。
三、濺射靶材的應用
濺射靶材主要應用于電子及信息產業，如集成電路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器、電子控制器件等；亦可應用于玻璃鍍膜領域；還可以應用于耐磨材料、高溫耐蝕、高檔裝飾用品等行業。
